什么是抵抗?

 抗蚀剂是一种用于在蚀刻和焊接等过程中保护电路板特定部分的材料。通常,半导体工艺中使用的“光致抗蚀剂”简称为“抗蚀剂”。

 
当光刻胶吸收特定波长的光时,其化学结构会发生变化,并且其在清洁和显影溶液中的溶解度也会发生变化。因此,在基板上涂敷抗蚀剂后,隔着描绘有电路图案的掩模对基板照射光,从而能够仅使抗蚀剂的一部分溶解或不溶解。如果在该状态下用显影液清洗基板,则仅溶出可溶性抗蚀剂,成为仅基板的一部分被抗蚀剂保护的状态。
 
抗蚀剂有两种类型:“正性抗蚀剂”,其中受光照射的区域溶解在显影剂中;以及“负性抗蚀剂”,其中受光照射的区域变得不溶解。
 
 
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SONIC索尼克、SANKO三高、NEWKON新光、HAYASHI 林时计、NPM日脉
NS日本科学、DRY-CABI东利繁、TOKISANGYO东机、SIBATA柴田、SUGIYAMA杉山
 
优势品牌:USHIO牛尾、TOPCON拓普康、AITEC艾泰克、FUNATECH船越龙、ORC欧阿西
SAGADEN嵯峨、SAKAZUME坂诘、DNP大日本科研、TOKYO DENSHOKU电色、KKIMAC
S-VANS斯万斯、ORIHARA折原、LUCEO鲁机欧、HIKARIYA光屋、YAMADA山田光学
AND艾安得、T&D天特、JIKCO吉高、DKK-TOA东亚电波、OKANO冈野
IMV艾目微、MITUTOYO三丰、KYOWA共和、ONOSOKKI小野、SANEI三荣
HEIDON新东、KURABO仓纺、SHOWA昭和、THINKY新基
SURUGA骏河、ACCRETECH東京精密、SANSYO三商、ITOH伊藤
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